计算半导体和金属中的费米能量和电子分布。
确定不同温度和电子密度下材料的费米能级、费米能量和电子分布函数。
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室温下中等掺杂的典型n型硅。
温度: 300 K
密度: 1e15 cm⁻³
质量: 0.98 m₀
带隙: 1.12 eV
类型: Silicon
具有高电子迁移率的砷化镓半导体。
温度: 300 K
密度: 1e16 cm⁻³
质量: 0.067 m₀
带隙: 1.42 eV
类型: GaAs
室温下具有高电子密度的铜金属。
温度: 300 K
密度: 8.5e22 cm⁻³
质量: 1.0 m₀
带隙: 0 eV
类型: Metal
用于量子应用的低温硅。
温度: 4.2 K
密度: 1e14 cm⁻³
质量: 0.98 m₀
带隙: 1.12 eV
类型: Silicon